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晒版工艺曝光过程中的注意事项简析 浏览次数: 2233

 正确把握曝光时间对晒版工艺而言非常重要。曝光过度会导致一些小点子被晒丢,使得亮调层次损失;而曝光不足则又会造成空白(非图文部分)部分的分解不彻底,并且易于沾脏。因此,在晒版曝光过程中需要考虑以下因素:

    (1)选择和PS版感光胶光谱灵敏度相匹配的光源—短波长光源问(UV光源)。这样一方面可以缩短晒版的时间,另一方面还可以减少长波带来的热效应。

    (2)尽量减少自然光对PS版的影响。一般来说,采用白炽灯照明则较为安全,即使曝光完成之后也要尽量少见光,防止图文部分的再分解。

    (3)曝光时间的掌握应与显影相配合,尽量稳定不变,这有利于晒版质量。

    (4)在显影之后到印刷之前的这段时间,如果时间允许则需尽量将印版放在阴凉处自然晾干,以防止强光或高温对感光层造成损害。

    在晒版过程中,为了保证网点的准确复制还要充分注意原版与PS版紧密结合。晒版玻璃与橡皮布的不平整、灰尘的夹垫、底片上胶带、头发和脏物等杂质,以及胶片与PS版之间的真空度不够等因素,都会造成胶片和版材感光胶层的密合不良,从而导致光线通过时会产生衍射现象,使印版的网点发虚、缩小,或出现不吸墨白点,影响网点的复制,导致图像复制的再现性下降,对晒版质量会造成不可忽视的影响。此外,晒版机橡皮布老化,在一些边缘位置就会存在少量漏气,这也会导致PS版与胶片贴不紧,使得晒出的图文发虚。

 

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